Фирма-изготовитель: FEI Company, Нидерланды
Год выпуска: 2007
Растровый электронный микроскоп Nova Nanolab 600 предназначен для исследования объектов на микро- и наноуровнях, а также создания трехмерных наноструктур на поверхности образца. Совместное использование фокусированных электронного и ионного пучков позволяет совмещать операции модификации подложек с выполнением анализа и контроля параметров технологического процесса.
В состав Nova Nanolab 600 входят:
– электронно-лучевая колонна, оснащенная катодом с полевой эмиссией (ускоряющее напряжение от 200В до 30кВ, разрешающая способность
1,1 нм при 15 кВ);
– ионная колонна Magnum с галлиевым жидкометаллическим источником ионов (ускоряющее напряжение от 5 кВ до 30 кВ, разрешающая способность 7 нм);
– 4-х канальная газовая инжекционная система;
– система энергодисперсного рентгеновского микроанализа EDAX GENESIS 6000i;
– система электронно-лучевой литографии Raith DELPHY 6 MHZ, оснащенная 5-ти осевым программно-управляемым моторизованным предметным столиком (150х150х10 мм), что позволяет позиционировать образец с высокой точностью.
– электронно-лучевая колонна, оснащенная катодом с полевой эмиссией (ускоряющее напряжение от 200В до 30кВ, разрешающая способность
1,1 нм при 15 кВ);
– ионная колонна Magnum с галлиевым жидкометаллическим источником ионов (ускоряющее напряжение от 5 кВ до 30 кВ, разрешающая способность 7 нм);
– 4-х канальная газовая инжекционная система;
– система энергодисперсного рентгеновского микроанализа EDAX GENESIS 6000i;
– система электронно-лучевой литографии Raith DELPHY 6 MHZ, оснащенная 5-ти осевым программно-управляемым моторизованным предметным столиком (150х150х10 мм), что позволяет позиционировать образец с высокой точностью.